1. 氮氣供給與分配系統

• 氮氣源接口：連接外部氮氣鋼瓶或發生器，配備減壓閥控制進氣壓力（通常 0.1-0.5MPa），確保氣體穩定輸出。
• 氣體分流裝置：通過多通道管路將氮氣分配至每個樣品位，部分設備內置流量計（精度 ±2mL/min），可獨立調節單個通道的氮氣流量（5-50mL/min），適應不同體積樣品（如 1-50mL）。
• 吹掃針組件：采用耐腐蝕材質（如 316 不銹鋼），針頭可升降或定位（部分帶自動對位功能），貼近樣品液面 1-3mm 吹掃，減少氮氣浪費。

2. 加熱與溫控系統

• 加熱模塊：常見鋁塊加熱（孔徑適配離心管、試管，如 12/24/48 孔）或水浴 / 油浴加熱，前者控溫更均勻（溫差≤±1℃），后者適合易揮發溶劑。
• 溫控單元：通過 Pt100 鉑電阻傳感器實時監測溫度，配合 PID 控制系統，控溫范圍通常室溫 + 5℃至 150℃，支持預設溫度程序（如階梯升溫）。

3. 自動化控制系統

• 核心控制模塊：由微處理器和觸控屏組成，可設置吹掃時間（0-999min）、氮氣流量、加熱溫度等參數，部分支持外接電腦或 U 盤存儲方法。
• 聯動執行部件：包含步進電機驅動的吹掃針升降機構（定位精度 ±0.5mm）、氮氣閥自動開關裝置，實現 “到達設定溫度后自動通氣”“濃縮完成后自動停氣降溫” 等聯動操作。

4. 樣品承載與安全結構

• 樣品架：適配標準容器（如 1.5mL 離心管、10mL 試管），部分可兼容定制孔徑，架體帶防滑設計，避免樣品傾倒。
• 安全防護組件：內置超溫報警（超過設定值 5℃自動斷電）、氮氣壓力不足提示功能；外殼采用阻燃材料，部分帶透明防護罩，防止溶劑蒸氣擴散。

5. 輔助結構

• 廢液收集槽：位于加熱模塊下方，收集冷凝或滴落的廢液，便于清潔。
• 散熱系統：背部或底部設散熱風扇，保證電子元件和加熱模塊穩定運行。